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duv光刻机能生产多少nm（duv光刻机能生产多少纳米的芯片）
Duv光刻机能生产最小线宽（即最小特征尺寸）的大小通常在100纳米左右，但是一些高端的Duv光刻机可以生产出更小的线宽，最小甚至可以到50纳米以下。需要注意的是，不同的Duv光刻机的生产能力可能不同，而且制程技术和材料等因素也 -
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中国有光刻机吗，中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。光刻机（Mask Aligner -
蚀刻机和光刻机区别，刻蚀机和光刻机的区别如下：1、工艺不同：刻蚀机是将硅片。上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上。2、难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机。 -
苹果a12和a13性能差距，苹果a12和a13性能差距：1、工艺方面，A12处理器使用台积电的7nm工艺，而A13处理器则使用台积电的7nmEUV工艺。虽然同样是7nm，但是7nmEUV工艺使用了台积电更先进的极紫外光刻技术。7 -
魅族17pro和魅族17区别，魅族17pro和魅族17区别如下：1、外观魅族17采用双面玻璃机身，配合次代光刻电镀工艺，带来不错的手感和观感。机身重量为199克，拥有松深入墨，十七度灰和AG魔幻独角兽三款配色。魅族1 -
魅族17与17pro区别，魅族17与17pro区别：1、魅族17采用双面玻璃机身，配合次代光刻电镀工艺，带来不错的手感和观感。机身重量为199克，拥有松深入墨，十七度灰和AG魔幻独角兽三款配色。魅族17Pro采用煅烧 -
刻蚀机和光刻机的区别，1、工艺不同：刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上。2、难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机。等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子 -
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